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臺式高性能多功能PVD薄膜制備系列—nanoPVD
簡介:臺式高性能多功能PVD薄膜制備系列—nanoPVD基于多年大型薄膜制備系統的設計與研發所積累的豐富經驗,MoorfieldNanotechnology深入了解了劍橋大學、諾森比亞大學、帝國理工學院、巴斯大學、??巳卮髮W、倫敦瑪麗女王大學等多所大學科研團隊的具體需求,經過不懈努力推出了臺式高性...
¥0高精度薄膜制備與加工系統-MiniLab
簡介:MoorfieldNanotechnology是英國材料科學領域高性能儀器研發公司,成立二十多年來專注于高質量的薄膜生長與加工技術,擁有雄厚的技術實力,推出的多種高性能設備受到科研與工業領域的廣泛好評。高精度薄膜制備與加工系統-MiniLab是英國MoorfieldNanotechnology公司經過多年技術積累...
¥0臺式高精度薄膜制備與加工系統
簡介:臺式高精度薄膜制備與加工系統MoorfieldNanotechnology是英國材料科學領域高性能儀器研發公司,成立25年來專注于高質量的薄膜生長與加工技術,擁有雄厚的技術實力,推出的多種高性能設備受到科研與工業領域的廣泛好評。Moorfield公司近十年來與曼徹斯特大學諾獎技術團隊緊密合作,...
¥0微波等離子化學氣相沉積系統-MPCVD
簡介:微波等離子化學氣相沉積系統-MPCVD微波等離子化學氣相沉積技術(MPCVD),通過等離子增加前驅體的反應速率,降低反應溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結晶形態好的高質量硬質薄膜和晶體。MPCVD是制備大尺寸單晶金剛石有效手段之一。德國iplas公司的CYRANNUS等離子技術解決...
¥0多功能高磁控濺射噴金儀—nanoEM
簡介:多功能高磁控濺射噴金儀—nanoEMnanoEM是MoorfieldNanotechnology推出的一款高精度的磁控濺射噴金儀。該系統可配備SEM樣品托、TEM網、普通樣品等多種專用樣品臺,滿足各種高精度的噴金或電生長需求。除了濺射金屬電外,nanoEM還具有大的拓展空間,雖然作為臺式設備,nanoEM配備了輸...
¥0臺式氣氛\壓力控制高溫退火系統—ANNEAL
簡介:臺式氣氛\壓力控制高溫退火系統—ANNEAL臺式氣氛\壓力控制高溫退火系統—ANNEAL可用于二維材料以及襯底、樣品在特定氛圍中的高精度熱處理,也可用于其他有高精度熱處理要求的方向。MoorfieldNanotechnology將樣品、襯底等材料的熱處理上升到與納米材料的制備同樣的技術高度。通過的...
¥0臺式超二維材料等離子軟刻蝕系統—nanoETCH
簡介:臺式超二維材料等離子軟刻蝕系統—nanoETCH石墨烯等二維材料的微納加工與刻蝕需要很高的精度,而目前成熟的傳統半導體刻蝕系統在面對單層材料的高精度刻蝕需求時顯得力不從心。為了解決目前微納加工中常用的等離子刻蝕系統功率較大、難以精細控制的問題,MoorfieldNanotechnology與...
¥0臺式高性能CVD石墨烯/碳納米管快速制備系列—nanoCVD
簡介:臺式高性能CVD石墨烯/碳納米管快速制備系列—nanoCVDNanoCVD系列臺式設備是專為制備高質量的石墨烯與碳納米管而開發的高性能臺式CVD系統。在與諾獎科研團隊的長期合作中獲得的豐富經驗使該系列產品具有非常高的性能。特別是針對石墨烯、碳納米管等不同的應用進行了針對性的優化。該...
¥0新一代高性能激光浮區法單晶爐
簡介:新一代高性能激光浮區法單晶爐-LFZQuantumDesignJapan公司推出的高溫光學浮區法單晶爐,采用鍍金雙面鏡、高反射曲面設計,高溫度可達2100℃-2200℃,系統采用冷卻節能設計(不需要額外冷卻系統),穩定的電源輸出保證了燈絲的恒定加熱功率......應用領域可廣泛用于凝聚態物理、化學...
¥0高溫高壓光學浮區法單晶爐
簡介:高溫高壓光學浮區法單晶爐德國SciDre公司推出的高溫高壓光學浮區法單晶爐能夠提供2200–3000℃以上的生長溫度,晶體生長腔壓力可達300bar,甚至10-5mbar的高真空。適用于生長各種超導材料單晶,介電和磁性材料單晶,氧化物及金屬間化合物單晶等。應用領域適用于生長各種超導材料單...
¥0電弧等離子體沉積系統
簡介:電弧等離子體沉積系統日本ADVANCERIKO公司致力于電弧等離子體沉積系統(APD)利用脈沖電弧放電將電導材料離子化,產生高能離子并沉積在基底上,制備納米薄膜鍍層或納米顆粒。電弧等離子體沉積系統利用通過控制脈沖能量,可以在1.5nm到6nm范圍內控制納米顆粒直徑,活性好,產量高。多...
¥0美國Thermal Technology實驗室真空高溫爐
簡介:實驗室真空高溫爐設備簡介美國ThermalTechnology高溫爐適用于各種實驗室應用及小規模生產。操作簡單,性能穩定。高可定制溫度達3000℃。設備特點*豐富加熱原件可供選擇*高溫度可達3000°C*可實現超高真空*可實現Ar/N2/O2/H2等多種氣氛環境應用領域美國ThermalTechnology高溫爐可用...
¥0電弧熔煉爐-Model BJ5
簡介:電弧熔煉爐產品簡介美國ThermalTechnology的BJ5電弧熔煉爐可以有效的應用于粉末熔煉、電弧鑄造,金屬和非金屬、化合物材料的合成和致密化處理。BJ5電弧熔煉爐操作方便,可靠性高,通用性強,同時提供的超高溫和其純凈的熔煉環境。用于高純度熔煉:因為其簡單、易用的內部結構,BJ5...
¥0自動熱處理爐 / 陶瓷熱處理爐
簡介:美國ThermalTechnology自動熱處理爐(APFAutomaticProcessingFurnacesystems)與陶瓷熱處理爐(CPFCeramicProcessingFurnacesystems)可實現全自動、無人值守操作,高可定制溫度達2500℃。工件熱處理循環時升溫速率100℃/min,降溫速率可達300℃/min。氫氣爐/高真空爐可選??稍跔t頂與...
¥0自動熱處理爐 / 陶瓷熱處理爐
簡介:自動熱處理爐/陶瓷熱處理爐美國ThermalTechnology自動熱處理爐(APFAutomaticProcessingFurnacesystems)與陶瓷熱處理爐(CPFCeramicProcessingFurnacesystems)可實現全自動、無人值守操作,高可定制溫度達2500℃。工件熱處理循環時升溫速率100℃/min,降溫速率可達300℃/min。氫氣爐...
¥0美國Thermal Technology公司熱壓爐
簡介:熱壓爐熱壓爐HP200LinktoMSUFall2007article熱壓爐HP20Linktomodelspecs擴散粘結用熱壓爐:工作溫度1450℃,壓力100噸,鉬熱區單元24''X24''X30''系統尺寸:15'(L)X9.5'(W)X12.2'(H)Linktopressrelease碳化硅SiC熱壓爐型號壓力/噸位樣品空間(英寸)HP2210tonsФ4X4(H)HP5225tons
¥0激光加熱基座晶體生長爐
簡介:激光加熱基座晶體生長爐法國Cyberstar公司生產的激光加熱基座晶體生長(Laser-heatedpedestalgrowth,LHPG)是在提拉法晶體生長基礎上發展起來的、一種以激光為熱源的無坩堝單晶纖維生長工藝,因局部熔化特性,亦可稱其為浮區熔化晶體生長。激光加熱基座晶體生長爐(LHPG)具有無坩...
¥0高精度光學浮區法單晶爐
簡介:高精度光學浮區法單晶爐QuantumDesignJapan公司推出的高溫光學浮區法單晶爐,采用鍍金雙面鏡、高反射曲面設計,高溫度可達2100℃-2200℃,系統采用冷卻節能設計(不需要額外冷卻系統),穩定的電源輸出保證了燈絲的恒定加熱功率......應用領域:■高溫超導體■介電和磁性材料■金屬...
¥0臺式三維原子層沉積系統
簡介:臺式三維原子層沉積系統ALD原子層沉積(Atomiclayerdeposition,ALD)是通過將氣相前驅體脈沖交替的通入反應器,化學吸附在沉積襯底上并反應形成沉積膜的一種方法,是一種可以將物質以單原子膜形式逐層的鍍在襯底表面的方法。因此,它是一種真正的“納米”技術,以控制方式實現納米...
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