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小型臺式無掩膜光刻機-Microwriter ML3
簡介:小型臺式無掩模光刻系統小型臺式無掩模光刻系統是英國DurhamMagnetoOptics公司專為實驗室設計開發,為微流控、SAW、半導體、自旋電子學等研究領域提供方便的微加工方案。傳統的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩模板需要由專業供應商提供,但是在研發環境中,掩模板的設計通常需要經常改...
¥0飛秒激光微納加工綜合系統-Laser Nanofactory
簡介:飛秒激光微納加工綜合系統-LaserNanofactoryFemtika公司設計并生產的飛秒激光微納加工綜合系統-LaserNanofactory是一款集增材與減材制造于一體的綜合微納加工系統。與傳統的微納3D打印設備相比,LaserNanofactory不僅可用于光子學聚合物微納結構的加工,還可以用于石英,陶瓷,玻璃...
¥0離子輻照磁性精細調控系統Helium-S?
簡介:離子輻照磁性精細調控系統Helium-S?法國Spin-Ion公司成立于2017年,源自法國研究中心/巴黎-薩克雷大學的知名課題組,在磁性材料的離子束工藝方面有20年的經驗,擁有4項和40多篇發表文章。Spin-Ion公司推出的產品——可用于多種磁性研究的離子輻照磁性精細調控系統Helium-S?,采用創...
¥0新一代高精度低溫銫離子源FIB系統-FIB:ZERO
簡介:新一代高精度低溫銫離子源FIB系統運用曾獲諾貝爾獎的激光冷卻技術,zeroKNanotech公司于2020年推出了基于低溫銫離子源(Cs+LoTIS)的新一代高性能聚焦離子束系統——FIB:ZERO(Cs+LoTIS)和相應的離子源升配件——FIB:RETRO。zeroKNanotech公司采用的低溫技術可以減少離子束中的隨...
¥03D納米結構高速直寫機
簡介:3D納米結構高速直寫機——款納米光刻與微米光刻兼顧的聯合圖形化工藝方案NanoFrazor光刻技術,衍生于IBMResearch研發的熱掃描探針光刻技術——快速、地控制納米針尖的移動及溫度,利用熱針尖實現對熱敏抗刻蝕劑的快速刻寫,從而為納米制造提供了許多新穎的、特的可能性。NanoFrazo...
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